锦弘霖HM600POS机客服电话是什么？

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Primo Menova 12寸ICP单腔刻蚀设备专注于金属刻蚀领域，擅长金属Al线、Al块刻蚀，广泛适用于功率半导体、存储器件及先进逻辑芯片制造，是晶圆厂金属化工艺的核心设备。该设备在刻蚀均一性控制方面表现卓越，可实现高速率、高选择比及低底层介质损伤等优异性能。同时，其高效腔体清洁工艺能有效减少腔室污染、延长持续运行时间；集成的高温水蒸气除胶腔室可高效清除金属刻蚀后晶圆表面残留的光刻胶及副产物。此外，主刻蚀腔体与除胶腔体可根据客户工艺需求灵活组合，最大限度满足高生产效率要求，确保高负荷生产中的稳定性与良率。

在薄膜沉积技术方面，中微公司此次发布的四款新品，包括三款原子层沉积产品以及一款外延产品。

其中，中微公司推出的 12 英寸原子层沉积产品 Preforma Uniflash金属栅系列，涵盖Preforma Uniflash TiN、Preforma Uniflash TiAl及Preforma Uniflash TaN三大产品，能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属栅方面的应用需求。

Preforma Uniflash金属栅系列产品采用中微公司独创的双反应台设计，系统可灵活配置多达五个双反应台反应腔，满足高真空系统工艺集成需求的同时实现业界领先的生产效率。该系列产品搭载中微公司独有的多级匀气混气系统，融合基于模型算法的加热系统设计，以及可实现高效原子层沉积反应的反应腔流导设计等核心技术，不仅能满足先进逻辑客户的性能需求，其设备在薄膜均一性、污染物控制能力及生产效率方面均达到世界先进水平。